耐蚀性构件

摘要

本发明系提供一种提升曝露于卤素系腐蚀气体或卤素系气体电浆雰围中所曝露面之耐蚀性，可长期适用于如：半导体制造装置内、平面显示器制造装置内、或太阳电池制造装置内。因此，藉由以含有Gd或Yb、且含有铁族金属化合物以氧化物换算下为多于5ppm、少于50ppm之氧化物被膜，形成耐蚀性构件后，对于卤素系腐蚀气体或卤素系气体电浆，可确保足够的耐蚀性，减少微粒的产生。