发明名称 |
涂布于抗反射涂层上之光阻的显像方法 |
摘要 |
本发明之方法系关于使涂布于抗反射涂层薄膜上之光阻薄膜显像,其包含a)由抗反射涂层组合物形成抗反射涂层薄膜,其中该组合物包含矽氧烷聚合物;b)用硷性处理水溶液处理该抗反射薄膜;c)用冲洗水溶液冲洗该经处理之抗反射薄膜;d)在该抗反射涂层组合物之该薄膜上形成光阻涂层;e)显像性地曝光该光阻薄膜;及f)用硷性显影水溶液使该光阻显影。 |
申请公布号 |
TW200937130 |
申请公布日期 |
2009.09.01 |
申请号 |
TW097149427 |
申请日期 |
2008.12.18 |
申请人 |
AZ电子材料美国股份有限公司 |
发明人 |
大卫 阿达哈;艾伯特 戴奥希斯;亚伦 提姆可;张汝志 |
分类号 |
G03F7/16(2006.01);G03F7/09(2006.01);G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/16(2006.01) |
代理机构 |
|
代理人 |
陈长文 |
主权项 |
|
地址 |
美国 |