发明名称 涂布于抗反射涂层上之光阻的显像方法
摘要 本发明之方法系关于使涂布于抗反射涂层薄膜上之光阻薄膜显像,其包含a)由抗反射涂层组合物形成抗反射涂层薄膜,其中该组合物包含矽氧烷聚合物;b)用硷性处理水溶液处理该抗反射薄膜;c)用冲洗水溶液冲洗该经处理之抗反射薄膜;d)在该抗反射涂层组合物之该薄膜上形成光阻涂层;e)显像性地曝光该光阻薄膜;及f)用硷性显影水溶液使该光阻显影。
申请公布号 TW200937130 申请公布日期 2009.09.01
申请号 TW097149427 申请日期 2008.12.18
申请人 AZ电子材料美国股份有限公司 发明人 大卫 阿达哈;艾伯特 戴奥希斯;亚伦 提姆可;张汝志
分类号 G03F7/16(2006.01);G03F7/09(2006.01);G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 G03F7/16(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 美国