| 摘要 |
1. Способ изготовления устройства МЭМС, согласно которому: ! берут подложку; ! наносят на нее электродный слой; ! наносят поверх электродного слоя временный слой; ! формируют во временном слое рельеф с образованием отверстий; ! наносят поверх временного слой подвижный слой и ! формируют поддерживающие структуры, расположенные над подвижным слоем и по меньшей мере частично в отверстиях в временном слое. ! 2. Способ по п.1, согласно которому подвижный слой содержит механический подслой и отражающий подслой. ! 3. Способ по п.2, согласно которому механический подслой формируют непосредственно поверх отражающего подслоя. ! 4. Способ по п.2, согласно которому при нанесении подвижного слоя на временный слой: ! наносят поверх временного слоя отражающий подслой; ! формируют рельеф в отражающем подслое; ! наносят второй временный слой после отражающего подслоя и поверх него и ! после отражающего подслоя и поверх него наносят механический подслой. ! 5. Способ по п.2, согласно которому отражающий подслой содержит алюминий. ! 6. Способ по п.2, согласно которому подвижный подслой содержит по меньшей мере один материал, выбранный из группы материалов: никель и хром. ! 7. Способ по п.2, согласно которому отражающий подслой наносят после формирования рельефа материала временного слоя и дополнительно удаляют по меньшей мере участок отражающего слоя, расположенный вдоль основания отверстий во временном слое. ! 8. Способ по п.2, согласно которому отражающий подслой наносят до формирования рельефа материала временного слоя. ! 9. Способ по п.1, согласно которому поддерживающие структуры содержат по меньшей мере один материал, выбранный из группы: алюмин |
