用于半导体光刻的光学系统

摘要

本发明涉及用于半导体光刻、包括若干光学组件(1)的光学系统。为控制光学系统不同的操作配置，所述系统包括用于在沿光学系统光轴的限定位置上定位至少一个光学组件(1)的至少一个控制单元(2)。所述控制单元(2)与光学组件(1)上的至少一个触点(3)接合。控制单元(2)以此类方式配置，使得它可在不到500毫秒、优选为不到50毫秒的时间范围内，在两种不同的操作配置之间更改。

主权项

1.一种光刻投影曝光设备，包括-可通过以下方式移动一段距离的光学组件(1)-沿直线(112)-在定位时间内，其中-所述直线(112)具有在0°与90°之间的极角和方位角，以及-所述直线(112)与光轴(200)之间的距离小于所述投影曝光设备的投影曝光光束的横截面尺寸；其中-所述光学组件(1)由具有引导方向的引导单元引导，并且-由具有驱动方向的驱动单元(300)通过驱动力以这样一种方式驱动，即，使得-由所述光学组件(1)的惯性力以及与所述光学组件(1)同时移动的可能组件的惯性力生成的转矩和作用于所述引导单元的所述驱动力生成的转矩相互补偿降到小于10％的量值。