发明名称 |
使用半曝光用正型感光性树脂层的透明性固化膜的制造方法 |
摘要 |
本发明的课题是提供在维持高灵敏度的状态下具有较宽曝光裕量的透明性固化膜的制造方法,尤其是提供一种透明性固化膜的制造方法,所述透明性固化膜可以在制造半透射型液晶显示元件中的TFT平坦化膜时应用,特别是用于通过半曝光而同时形成接触孔和反射用凹凸。作为本发明的解决问题的方法是,提供一种透明性固化膜的制造方法,其特征在于,包括下述工序:在基材上将曝光灵敏度不同的两层正型感光性树脂层进行叠层,使得低灵敏度的正型感光性树脂层位于所述基材与高灵敏度的正型感光性树脂层之间,然后将该正型感光性树脂层进行曝光、曝光后加热、显影、后烘烤。并且提供一种显示元件,具有通过这样的方法得到的透明性固化膜。 |
申请公布号 |
CN101517492A |
申请公布日期 |
2009.08.26 |
申请号 |
CN200780034656.3 |
申请日期 |
2007.09.18 |
申请人 |
日产化学工业株式会社 |
发明人 |
畑中真 |
分类号 |
G03F7/26(2006.01)I;G03F7/039(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/26(2006.01)I |
代理机构 |
北京市中咨律师事务所 |
代理人 |
段承恩;田 欣 |
主权项 |
1.一种透明性固化膜的制造方法,该制造方法包括下述工序:在基材上叠层曝光灵敏度不同的两层正型感光性树脂层、使得低灵敏度的正型感光性树脂层位于所述基材与高灵敏度的正型感光性树脂层之间的工序,将该叠层后的两层正型感光性树脂层进行曝光的工序,将该两层正型感光性树脂层进行曝光后加热的工序,将该两层正型感光性树脂层进行显影的工序,将该两层正型感光性树脂层进行后烘烤的工序,该透明性固化膜的制造方法的特征在于,该低灵敏度的正型感光性树脂层是含有下述的(A)成分、(B)成分、(C)成分和(D)成分的正型感光性树脂层,(A)成分为碱溶性树脂,(B)成分为1分子中具有两个以上乙烯基醚基的化合物,(C)成分为通过后烘烤与(A)成分进行交联反应的化合物,(D)成分为光产酸剂。 |
地址 |
日本东京都 |