发明名称 |
Ⅲ族氮化物化合物半导体发光元件的制造方法以及Ⅲ族氮化物化合物半导体发光元件和灯 |
摘要 |
本发明提供生产率优异、并具有优异的发光特性的III族氮化物化合物半导体发光元件的制造方法以及III族氮化物化合物半导体发光元件和灯。该III族氮化物化合物半导体发光元件的制造方法,是在基板(11)上至少层叠由III族氮化物化合物形成的中间层(12),并在该中间层(12)上依次层叠具有基底层(14a)的n型半导体层(14)、发光层(15)和p型半导体层(16)的方法,具有对基板(11)进行等离子处理的预处理工序、和继该预处理工序之后的、采用溅射法在基板(11)上形成中间层(12)的溅射工序。 |
申请公布号 |
CN101517759A |
申请公布日期 |
2009.08.26 |
申请号 |
CN200780035629.8 |
申请日期 |
2007.09.26 |
申请人 |
昭和电工株式会社 |
发明人 |
横山泰典;酒井浩光;三木久幸 |
分类号 |
H01L33/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L33/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京市中咨律师事务所 |
代理人 |
段承恩;田 欣 |
主权项 |
1、一种III族氮化物化合物半导体发光元件的制造方法,是在基板上至少层叠由III族氮化物化合物形成的中间层,并在该中间层上依次层叠具有基底层的n型半导体层、发光层和p型半导体层的III族氮化物化合物半导体发光元件的制造方法,其特征在于,具有:对所述基板进行等离子处理的预处理工序;和继该预处理工序之后的、采用溅射法在所述基板上形成所述中间层的溅射工序。 |
地址 |
日本东京都 |