发明名称 |
一种有机电致发光显示器件的制备方法 |
摘要 |
本发明属于平板显示技术领域,涉及有机电致发光显示器件的制备方法,步骤如下:1)在导电基板上印刷ITO阳极图形,将印有阳极的基板进行超声清洗,在真空室中进行臭氧离子轰击处理;2)在基板上制备NPB空穴传输层;3)空穴传输层上制备发光层;4)在发光层上制备Alq<sub>3</sub>电子传输层;5)电子传输层上制备CuPc/LiF/Al功能插层;6)在功能插层上制备第二空穴传输层;7)在第二空穴传输层上制备第二发光层;8)在第二发光层上制备第二Alq<sub>3</sub>电子传输层;9)在第二Alq<sub>3</sub>电子传输层上制备LiF/Al混合阴极;10)采用封装基板对器件进行整体封装,完成器件制备。本发明的有机电致发光显示器件OLED,制备工艺简单,可实现高亮度窄带发射。 |
申请公布号 |
CN101515633A |
申请公布日期 |
2009.08.26 |
申请号 |
CN200910021732.8 |
申请日期 |
2009.03.27 |
申请人 |
彩虹集团公司 |
发明人 |
张志刚 |
分类号 |
H01L51/56(2006.01)I;H01L51/54(2006.01)I |
主分类号 |
H01L51/56(2006.01)I |
代理机构 |
西安通大专利代理有限责任公司 |
代理人 |
徐文权 |
主权项 |
1.一种有机电致发光显示器件的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:1)在清洗干净的导电基板上印刷有机电致发光显示器件OLED的氧化铟锡ITO阳极图形,将印刷好氧化铟锡ITO阳极图形的基板分别用甲苯、乙醇和丙酮进行超声清洗,再用去离子水浸洗干净,在真空室中进行臭氧离子轰击处理,将真空室压强控制在5-50Pa之间,对基底进行轰击5min-20min;2)用真空蒸镀的方法在印刷好氧化铟锡ITO阳极图形的基板上蒸镀空穴传输层材料N,N’-双(1-萘基)-N,N’-二苯基-1,1’-二苯基-4,4’-二胺,简称NPB,制备NPB第一空穴传输层,系统真空度在5×10-5Pa,NPB沉积速率为0.1-1.5n m/s,厚度为40-80nm;3)在NPB第一空穴传输层上,采用现有技术真空蒸镀的方法蒸镀红绿蓝有机发光材料,制备第一发光层,系统真空度维持在5×10-5Pa,有机发光材料的沉积速率为0.1-2.0n m/s,厚度为20-50nm;4)在第一发光层上,采用真空蒸镀的方法蒸镀电子传输材料8-羟基喹啉铝Alq3,制备Alq3第一电子传输层,系统真空度维持在5×10-5Pa,电子传输材料的沉积速率为0.1-2.0n m/s,厚度为10-40nm;5)在Alq3第一电子传输层上,采用真空蒸镀的方法依次蒸镀功能插层材料CuPc、LiF和Al,制备CuPc/LiF/Al功能插层,系统真空度维持在5×10-5Pa,CuPc/LiF/Al功能插层材料的沉积速率为0.1-10.0n m/s,CuPc、LiF和Al的厚度分别5-20nm、0.1-5nm和1.0-10nm;6)在CuPc/LiF/Al功能插层上,采用真空蒸镀的方法蒸镀空穴传输层材料N,N’-双(1-萘基)-N,N’-二苯基-1,1’-二苯基-4,4’-二胺,简称NPB,制备第二空穴传输层,系统真空度在5×10-5Pa,NPB沉积速率为0.1-1.5n m/s,厚度为40-80nm;7)在第二空穴传输层上,采用真空蒸镀的方法蒸镀有机发光材料,制备第二发光层,系统真空度维持在5×10-5Pa,有机发光材料的沉积速率为0.1-2.0n m/s,厚度为20-50nm;8)在第二发光层上,采用真空蒸镀的方法蒸镀电子传输材料8-羟基喹啉铝Alq3,制备第二Alq3电子传输层,系统真空度维持在5×10-5Pa,电子传输材料的沉积速率为0.1-2.0n m/s,厚度为10-40nm;9)在第二Alq3电子传输层上,采用真空蒸镀的方法蒸镀阴极材料LiF和Al,制备LiF/Al混合阴极,系统真空度维持在5×10-5Pa,阴极材料的沉积速率为0.1-10.0n m/s,LiF和Al的厚度分别0.1-5nm和50-300nm;10)采用封装基板对器件进行整体封装,完成器件制备。 |
地址 |
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