| 发明名称 | 基板处理方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种基板处理方法，其是在溶解光致抗蚀剂图案而形成所希望的抗蚀剂图案的回流处理中，能够提高生产效率，降低成本的基板处理方法。在溶解在基板(G)上形成的光致抗蚀剂图案(206)，形成新的光致抗蚀剂图案的基板处理方法中实行以下步骤：将作为底膜的蚀刻掩模使用的上述光致抗蚀剂图案(206)在纯水(W)中暴露规定时间的步骤；向上述基板(G)上吹付空气，除去上述纯水(W)的步骤；和将上述光致抗蚀剂图案(206)暴露于溶剂气氛中进行溶解，对规定区域进行掩模的步骤。 | ||
| 申请公布号 | CN101515120A | 申请公布日期 | 2009.08.26 |
| 申请号 | CN200910007671.X | 申请日期 | 2009.02.20 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 白石雅敏;寺田尚司;麻生丰;大西辰己;真锅英二 |
| 分类号 | G03F7/26(2006.01)I;G03F7/30(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/26(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京尚诚知识产权代理有限公司 | 代理人 | 龙 淳 |
| 主权项 | 1.一种基板处理方法，其溶解在基板上形成的光致抗蚀剂图案，形成新的光致抗蚀剂图案，其特征在于，包括：将作为底膜的蚀刻掩模使用的所述光致抗蚀剂图案在纯水中暴露规定时间的步骤；向所述基板上吹付空气，除去所述纯水的步骤；和将所述光致抗蚀剂图案暴露于溶剂气氛中进行溶解，对规定区域进行掩模的步骤。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||