| 发明名称 | 用于监视介质状况的方法与设备 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种基于通道(33)中光的发送/发射来监视介质(50)的状况的方法，其中：光被引导通过由测量头(12)中测量间隙(13.1)定义的介质层，其中测量头(12)是从通道(33)的壁(30)的开口(31)推入的；测量通过介质层的光的强度或者与其成比例的变量；及根据设定的准则，利用测量电子装置(15)从强度的变化评估介质的状况。测量是利用具有紧凑测量头的传感器(10)执行的，其中测量电子装置(15)基本上在通道(33)的外面，而且其中光是由光纤装置(18、18.1、18.2)引导到测量间隙并从测量间隙离开的。此外，本发明还涉及对应的设备(10)。 | ||
| 申请公布号 | CN101517399A | 申请公布日期 | 2009.08.26 |
| 申请号 | CN200780035102.5 | 申请日期 | 2007.09.17 |
| 申请人 | 莫文塔斯有限公司 | 发明人 | J·万哈宁;M·林吉奥;P·图尔马;J·科尔皮-托莫拉;K·劳伯格;J·埃尔夫斯特罗姆 |
| 分类号 | G01N21/85(2006.01)I | 主分类号 | G01N21/85(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 李镇江 |
| 主权项 | 1、一种用于根据光的发送/发射来监视通道(33)中介质(50)的状况的方法，其中-光被引导通过由测量头(12)中的测量间隙(13.1)定义的介质层，其中测量头(12)是从通道(33)的壁(30)中的开口(31)推入的，-测量通过介质层的光的强度或者与强度成比例的变量，及-根据为介质(50)的状况设定的准则，利用测量电子装置(15)从强度的变化评估介质的状况，所述方法的特征在于，测量是利用具有紧凑测量头(12)的传感器(10)执行的，其中测量电子装置(15)基本上在通道(33)的外面，而且其中光是由光纤装置(18、18.1、18.2)引导到测量间隙(13.1)并离开所述测量间隙(13.1)的。 | ||
| 地址 | 芬兰于韦斯屈莱 | ||