Fe/Mo纳米多层膜及其制备方法

摘要

本发明公开了一种Fe/Mo纳米多层膜，其是由Fe层和Mo层交替沉积在基体上组成的，Fe层和Mo层厚度之比为0.95～1.05，双子层厚度为5～20nm，该纳米多层膜总厚度为1～3μm。所述的纳米多层膜力学性能优良、硬度高，薄膜与基体的结合强度高，耐磨性能优良；本发明Fe/Mo纳米多层膜硬度高，具有“超硬性”，因此可用于提高摩擦表面的耐磨性，多应用于机械性设备，尤其在精密仪器防摩擦应用方面耐磨性能显著。

主权项

1、一种Fe/Mo纳米多层膜的制备工艺，其特征在于，首先将基体加热至：50～150℃，靶材采用纯度为90～99.99％的Fe靶和纯度为90～99.95％的Mo靶，然后在2×10-2～2×100的Ar气氛中在基体上通过双靶射频溅射交替沉积Fe层和Mo层最终制成Fe/Mo纳米多层膜；所述Fe层和Mo层的厚度由基体在靶前的停留时间及沉积速率来控制，沉积Mo层时，基体在Mo靶前停留时间为：9～100秒，沉积速率为6～16nm/min；沉积Fe层时，基体在Fe靶前停留时间为：10～100秒，沉积速率为6～15nm/min；所述双靶溅射交替沉积时的自偏压为450～950V，溅射功率为100～300W，基体与靶材的距离为1～2厘米；所述双靶射频溅射交替沉积时加负偏压：50～200V。