发明名称 锆钛酸铅-铁酸钴厚膜的制备方法
摘要 本发明涉及电子材料与器件领域,公开了一种锆钛酸铅—铁酸钴厚膜的制备方法,该方法的步骤包括:将Pb(Zr<sub>0.52</sub>Ti<sub>0.48</sub>)O<sub>3</sub>粉体和CoFe<sub>2</sub>O<sub>4</sub>粉体分散在溶剂中制成浓度均匀的悬浮液,然后在恒电场条件下经过电泳沉积制备而成。本发明制得的锆钛酸铅—铁酸钴厚膜具有良好的电性能和磁性能,可应用于制备厚膜传感器,位移器,具有设备简单,成本低、成膜快、组分易于调整等特点,可大规模制备膜材料。
申请公布号 CN101514475A 申请公布日期 2009.08.26
申请号 CN200910046944.1 申请日期 2009.03.03
申请人 同济大学 发明人 翟继卫;莫伟锋;尚飞
分类号 C25D13/02(2006.01)I;H01L43/12(2006.01)I;H01L43/10(2006.01)I 主分类号 C25D13/02(2006.01)I
代理机构 上海光华专利事务所 代理人 许亦琳
主权项 1、一种锆钛酸铅-铁酸钴厚膜的制备方法,包括如下步骤:1)先将锆钛酸铅粉体、铁酸钴粉体混合并分散于分散介质中制成悬浮液;2)将电极放置在悬浮液中,保持两极板平行;3)在恒电场条件下,电泳沉积获得厚膜;4)将电泳完毕后所得厚膜进行等静压处理;5)将经过等静压处理的厚膜在高温环境下热处理,制得锆钛酸铅-铁酸钴厚膜。
地址 200092上海市杨浦区四平路1239号