| 发明名称 |
Electron beam influencing in an electron beam lithography machine |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
GB2443016(B) |
申请公布日期 |
2009.08.26 |
| 申请号 |
GB20060020527 |
申请日期 |
2006.10.16 |
| 申请人 |
VISTEC LITHOGRAPHY LIMITED |
发明人 |
PAUL GEORGE HARRIS;JOHN MELBOURNE TINGAY |
| 分类号 |
H01J37/07;H01J37/304;H01J37/317 |
主分类号 |
H01J37/07 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
