发明名称 |
形成异质结双极晶体管的方法及相关结构 |
摘要 |
形成异质结双极晶体管的方法及相关结构。本发明公开了一种使用多孔硅形成隔离区的方法及相关结构。本发明的一个实施例可以包括形成收集极区;在该收集极区内形成多孔硅区;在收集极区上形成晶体硅本征基极层,该本征基极层在多孔硅区的一部分上延伸,从而形成非本征基极;和在多孔硅区内形成隔离区。该方法适用于形成HBT,其具有一个结构,该结构包括延伸超出收集极区并在隔离区上延伸的晶体硅本征基极,从而形成低电阻的连续本征-非本征基极传导路径。该HBT具有更小的收集极-本征基极界面,和更大的本征基极-非本征基极界面,因此具有更高的性能。 |
申请公布号 |
CN100533759C |
申请公布日期 |
2009.08.26 |
申请号 |
CN200710089329.X |
申请日期 |
2007.03.23 |
申请人 |
国际商业机器公司 |
发明人 |
托马斯·A.·沃尔纳;托马斯·N.·亚当;斯蒂芬·W.·贝戴尔;乔尔·P.·德索扎;凯斯莱恩·T.·舍恩伯格 |
分类号 |
H01L29/423(2006.01)I;H01L29/737(2006.01)I;H01L21/331(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/423(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
秦 晨 |
主权项 |
1. 一种使用多孔硅形成隔离区的结构,包括:晶体硅本征基极,其延伸超出收集极区并在隔离区上方延伸。 |
地址 |
美国纽约 |