发明名称 形成异质结双极晶体管的方法及相关结构
摘要 形成异质结双极晶体管的方法及相关结构。本发明公开了一种使用多孔硅形成隔离区的方法及相关结构。本发明的一个实施例可以包括形成收集极区;在该收集极区内形成多孔硅区;在收集极区上形成晶体硅本征基极层,该本征基极层在多孔硅区的一部分上延伸,从而形成非本征基极;和在多孔硅区内形成隔离区。该方法适用于形成HBT,其具有一个结构,该结构包括延伸超出收集极区并在隔离区上延伸的晶体硅本征基极,从而形成低电阻的连续本征-非本征基极传导路径。该HBT具有更小的收集极-本征基极界面,和更大的本征基极-非本征基极界面,因此具有更高的性能。
申请公布号 CN100533759C 申请公布日期 2009.08.26
申请号 CN200710089329.X 申请日期 2007.03.23
申请人 国际商业机器公司 发明人 托马斯·A.·沃尔纳;托马斯·N.·亚当;斯蒂芬·W.·贝戴尔;乔尔·P.·德索扎;凯斯莱恩·T.·舍恩伯格
分类号 H01L29/423(2006.01)I;H01L29/737(2006.01)I;H01L21/331(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I 主分类号 H01L29/423(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 秦 晨
主权项 1. 一种使用多孔硅形成隔离区的结构,包括:晶体硅本征基极,其延伸超出收集极区并在隔离区上方延伸。
地址 美国纽约