| 发明名称 | 一种激光透明陶瓷及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种激光透明陶瓷及其制备方法，该激光透明陶瓷的分子式为(Nd<sub>X</sub>Y<sub>1-X</sub>)<sub>3</sub>(Si<sub>Z</sub>Al<sub>1-Z</sub>)<sub>5</sub>O<sub>12</sub>，其中X为Nd替代Y的原子百分含量，Z为Si替代Al的原子百分含量，X的取值范围为0.01～0.04，Z＝0.279X。采用低温燃烧方法合成出陶瓷粉末，经过普通模压、放电等离子烧结以及光学冷加工制备出激光透明陶瓷材料。该激光透明陶瓷的激光工作波长为1.065微米，该激光透明陶瓷和相同化学组成的单晶相比，激光量子效率提高了40～41％，厚度为1mm的激光透明陶瓷在近红外波段的光透过率为80～81％。低温燃烧方法和放电等离子烧结方式的结合降低了激光陶瓷的生产成本，有利于工业化生产。 | ||
| 申请公布号 | CN100532318C | 申请公布日期 | 2009.08.26 |
| 申请号 | CN200710055449.8 | 申请日期 | 2007.03.26 |
| 申请人 | 长春理工大学 | 发明人 | 苏春辉;张华山;张洪波;邵晶;宋琼 |
| 分类号 | C04B35/10(2006.01)I;C04B35/632(2006.01)I;C04B35/645(2006.01)I;C04B35/622(2006.01)I | 主分类号 | C04B35/10(2006.01)I |
| 代理机构 | 代理人 | ||
| 主权项 | 1. 一种激光透明陶瓷，其特征在于：该激光透明陶瓷的分子式为(NdXY1-X)3(SiZAl1-Z)5O12，其中X为Nd替代Y的原子百分含量，Z为Si替代Al的原子百分含量，X的取值范围为0.01～0.04，Z＝0.279X。 | ||
| 地址 | 130022吉林省长春市卫星路7089号 | ||