| 发明名称 | 用于固化电介质膜的多步系统和方法 | ||
| 摘要 | 一种用于使电介质膜固化的多步系统和方法，其中该系统包括被配置成用于减少电介质膜中的污染物(例如水分)的量的干燥系统。该系统还包括与干燥系统耦合的固化系统，该固化系统被配置成通过紫外(UV)辐射和红外(IR)辐射处理电介质膜来固化该电介质膜。 | ||
| 申请公布号 | CN101517708A | 申请公布日期 | 2009.08.26 |
| 申请号 | CN200680050790.8 | 申请日期 | 2006.10.06 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 刘俊军;埃里克·M·李;多雷尔·L·托玛 |
| 分类号 | H01L21/30(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/30(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 李 剑 |
| 主权项 | 1.一种处理衬底上的电介质膜的处理系统，包括：干燥系统，被配置成进行干燥工艺以减少所述电介质膜中或所述电介质膜上的污染物的量；与所述干燥系统耦合的固化系统，被配置成进行固化工艺，所述固化系统包括：紫外(UV)辐射源，被配置成将所述电介质膜暴露于UV辐射；和红外(IR)辐射源，被配置成将所述电介质膜暴露于IR辐射；以及与所述干燥系统和所述固化系统耦合的转移系统，被配置成在真空条件下在所述干燥系统与所述固化系统之间交换所述衬底。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||