发明名称 |
薄膜晶体管基板的制造方法和剥除溶液 |
摘要 |
一种制造薄膜晶体管基板的方法,包括形成晶体管薄层图案,形成保护层,形成光致抗蚀剂膜,形成彼此间隔开的像素电极和导电层,剥除光致抗蚀剂图案以使用剥除溶液除去导电层并溶解导电层。这种制造薄膜晶体管基板的方法能够提高薄膜晶体管基板的制造工艺的效率。此外,剥除溶液可以重复使用。 |
申请公布号 |
CN100533710C |
申请公布日期 |
2009.08.26 |
申请号 |
CN200510099624.4 |
申请日期 |
2005.08.30 |
申请人 |
三星电子株式会社 |
发明人 |
朴弘植;金时烈;郑钟铉;申原硕 |
分类号 |
H01L21/84(2006.01)I;G03F7/42(2006.01)I;G02F1/136(2006.01)I;H05B33/10(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/84(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
陶凤波;侯 宇 |
主权项 |
1. 一种制造薄膜晶体管基板的方法,包括:在基板上形成晶体管薄层图案;在所述晶体管薄层图案上形成保护层;在所述保护层上设置光致抗蚀剂膜;通过光刻工艺在所述基板上形成光致抗蚀剂图案和像素区域,以在所述光致抗蚀剂图案的下部分处产生底切;在所述光致抗蚀剂图案和所述像素区域上沉积导电材料以在基板上形成导电层和像素电极,所述导电层与所述像素电极电隔离;向所述基板上施加剥除溶液,以从所述基板上剥除所述光致抗蚀剂图案和除去形成于所述光致抗蚀剂图案上的所述导电层;以及收集用过的剥除溶液,所述用过的剥除溶液包括从所述基板被除去并完全溶解在所述用过的剥除溶液中的导电层。 |
地址 |
韩国京畿道 |