发明名称 一种ZnO基发光二极管的制备方法
摘要 本发明的ZnO基发光二极管是以ZnO为基,在衬底的一面自下而上依次沉积有n-ZnO薄膜层、n-Zn<sub>1-x</sub>Mg<sub>x</sub>O薄膜层、0<x<0.6,ZnO量子阱层、p-Zn<sub>1-x</sub>Mg<sub>x</sub>O薄膜层、0<x<0.6,p-ZnO薄膜层和第二电极,在衬底的另一面沉积有第一电极,其中ZnO量子阱层由z个周期的ZnO/Zn<sub>1-y</sub>Mg<sub>y</sub>O量子阱层构成,0<y<0.5,z值为5~10。采用金属有机物化学气相沉积法生长,其中,p-ZnO和p-Zn<sub>1-x</sub>Mg<sub>x</sub>O薄膜层用O<sub>2</sub>/NO混合气体的非等离子体辅助氮掺杂。通过优化NO/O<sub>2</sub>比例可以提高氮掺杂浓度,有利于提高器件性能。ZnO基发光二极管以量子阱作为有源层,利于提高发光效率。
申请公布号 CN100533790C 申请公布日期 2009.08.26
申请号 CN200710070016.X 申请日期 2007.07.13
申请人 浙江大学 发明人 叶志镇;曾昱嘉;卢洋藩;徐伟中
分类号 H01L33/00(2006.01)I 主分类号 H01L33/00(2006.01)I
代理机构 杭州求是专利事务所有限公司 代理人 韩介梅
主权项 1. ZnO基发光二极管的制备方法,其特征是步骤如下:将衬底(1)表面清洗后放入金属有机物化学气相沉积系统的生长室中,生长室抽真空至10-4Pa,加热衬底至300~600℃,通入有机锌源、氧气,生长压强为50Torr,在衬底上沉积n-ZnO薄膜层(2);通入有机锌源、有机镁源、氧气,生长压强为50Torr,在n-ZnO薄膜层(2)上沉积n-Zn1-xMgxO薄膜层(3)、0<x<0.6;交替通入有机锌源、氧气以及有机锌源、有机镁源、氧气,生长压强为50Torr,沉积ZnO层和Zn1-yMgyO层,0<y<0.5,以形成5~10个周期的ZnO量子阱层(4);然后通入有机锌源、有机镁源、氧气、一氧化氮,NO/O2的摩尔比为0.3~0.7,生长压强为30Pa,在ZnO量子阱层(4)上生长p-Zn1-xMgxO薄膜层(5)、0<x<0.6;接着通入有机锌源、氧气、一氧化氮,NO/O2的摩尔比为0.3~0.7,生长压强为20Pa,生长p-ZnO薄膜层(6);最后采用电子束蒸发法在p-ZnO薄膜层(6)上沉积第二电极(8),在衬底的另一面沉积第一电极(7)。
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