氮氧杂环化合物

主权项

1.一种式(I)所示之氮氧杂环化合物：式中，R1为C1-6烷基；R2系选自化学键、伸烷基、O、S或SO2所构成之组群之一者；R3为C1-6烷基；m为0至4之整数；以及n为1至4之整数。2.如申请专利范围第1项之化合物，其中，该R1之烷基为第三丁基。3.如申请专利范围第1项之化合物，其中，R2为伸烷基。4.如申请专利范围第3项之化合物，其中，该伸烷基为伸甲基。5.如申请专利范围第1项之化合物，其中，R3为氢。6.如申请专利范围第1项之化合物，其中，m为0。7.如申请专利范围第1项之化合物，其中，n为1。8.如申请专利范围第1项之化合物，其中，该化合物系由酚类化合物、芳香族二胺化合物以及醛类化合物进行反应所制得；其中，该酚类化合物系如式(II)所示：式中，R1及n系如上所定义；该芳香族二胺系如式(Ⅲ)所示：式中，R2、R3以及m系如上所定义。9.如申请专利范围第8项之化合物，其中，该酚类化合物为烷基酚化合物。10.如申请专利范围第9项之化合物，其中，该烷基酚化合物为对-第三丁基酚。11.如申请专利范围第8项之化合物，其中，该芳香族二胺化合物为二苯胺基甲烷。12.如申请专利范围第1至11项中任一项之化合物，其中，该化合物系用作为固化剂。13.如申请专利范围第1至11项中任一项之化合物，其中，该化合物系与环氧树脂形成环氧树脂组成物。14.如申请专利范围第13项之化合物，其中，该环氧树脂组成物系用积层板、接着剂、半导体封止材以及酚醛树脂形成材料。图式简单说明：第1图系制备例1之氮氧杂环化合物之IR光谱图。第2图系制备例1之氮氧杂环化合物之GPC层析图。第3图系制备例2之氮氧杂环化合物之IR光谱图。第4图系制备例2之氮氧杂环化合物之GPC层析图。第5图系制备例3之氮氧杂环化合物之IR光谱图。第6图系制备例3之氮氧杂环化合物之GPC层析图。第7图系比较例1之氮氧杂环化合物之IR光谱图。第8图系比较例1之氮氧杂环化合物之GPC层析图。第9图系比较例2之氮氧杂环化合物之IR光谱图。第10图系比较例2之氮氧杂环化合物之GPC层析图。第11图系比较例3之氮氧杂环化合物之IR光谱图。第12图系比较例3之氮氧杂环化合物之GPC层析图。