| 发明名称 | 烹调装置 | ||
| 摘要 | 为了提供一种能有效冷却烹调装置的后部空间的烹调装置，本发明公开了一种烹调装置，包括：烹调腔；后部空间，位于所述烹调腔后方；以及冷却流径，位于所述后部空间并从所述后部空间的下部延伸至所述后部空间的上部，以冷却所述后部空间。通过此构造，使得通过从所述后部空间的下部运动至其上部的流来冷却所述烹调装置的所述后部空间成为可能。 | ||
| 申请公布号 | CN101512229A | 申请公布日期 | 2009.08.19 |
| 申请号 | CN200680055809.8 | 申请日期 | 2006.12.07 |
| 申请人 | LG电子株式会社 | 发明人 | 李泰勋 |
| 分类号 | F24C7/02(2006.01)I | 主分类号 | F24C7/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 刘建功;车 文 |
| 主权项 | 1. 一种烹调装置，包括：烹调腔；位于所述烹调腔后方的后部空间；以及冷却流径，所述冷却流径位于所述后部空间并从所述后部空间的下部延伸至所述后部空间的上部，以冷却所述后部空间。 | ||
| 地址 | 韩国首尔 | ||