发明名称 制造层压基板的设备及方法
摘要 一种层压上、下基板的制造设备,其在运送基板过程和层压基板之前的吸附过程之间的时期,消除基板变形。该层压基板制造设备包括设置在处理室中的夹持板和压制板。夹持板和压制板均包括用于吸附相应基板的真空垫。控制器控制针对相应的夹持板和压制板设置的吸附装置。上夹持装置用于将该上基板运送到该压制板,并且包括:多个支撑杆,各支撑杆均具有多个吸附垫,用于真空吸附该上基板的上表面;以及用于分别升降各所述支撑杆的举升装置,其中在将该上基板从该上夹持装置吸附到该压制板时,该举升装置被控制为先升高所述多个支撑杆中用于至少支撑该上基板的中心部分的支撑杆,然后升高其余的支撑杆。
申请公布号 CN100529863C 申请公布日期 2009.08.19
申请号 CN200510077829.2 申请日期 2005.06.09
申请人 富士通株式会社 发明人 长谷川丈之;宫岛良政;村本孝纪
分类号 G02F1/1333(2006.01)I;G09F9/35(2006.01)I 主分类号 G02F1/1333(2006.01)I
代理机构 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人 王玉双;潘培坤
主权项 1.一种用于层压上、下基板的制造设备,每个基板均包括中心部分和外围部分,该制造设备包括:处理室;压制板和夹持板,其均设置在所述处理室中,用于分别夹持所述上、下基板并且将所述上、下基板互相层压在一起;多个吸附装置,其设置在所述压制板和夹持板上,用于吸附所述上、下基板;用于控制所述多个吸附装置的控制器;以及上夹持装置,其用于将该上基板运送到该压制板,该上夹持装置包括:多个支撑杆,各支撑杆均具有多个吸附垫,用于真空吸附该上基板的上表面;以及用于分别升降各所述支撑杆的举升装置,其中在将该上基板从该上夹持装置吸附到该压制板时,该举升装置被控制为先升高所述多个支撑杆中用于至少支撑该上基板的中心部分的支撑杆,然后升高其余的支撑杆。
地址 日本神奈川县川崎市