发明名称 |
基板处理装置及其板处理方法 |
摘要 |
本发明提供一种能够从基板很好地去除抗蚀剂,并且能够再利用在该抗蚀剂的去除中使用过的处理液的基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置具有:基板保持装置,其用于保持基板;过硫酸生成装置,其使用硫酸生成过硫酸;混合装置,其对通过所述过硫酸生成装置生成的过硫酸以及与由所述过硫酸生成装置使用的硫酸相比更高温并且更高浓度的硫酸加以混合;以及喷出装置,其将通过所述混合装置混合的过硫酸和硫酸的混合液作为从基板去除抗蚀剂用的处理液,并向保持在所述基板保持装置的基板喷出。 |
申请公布号 |
CN101512725A |
申请公布日期 |
2009.08.19 |
申请号 |
CN200780033165.7 |
申请日期 |
2007.09.05 |
申请人 |
栗田工业株式会社;大日本网屏制造株式会社 |
发明人 |
永井达夫;森田博志;高桥弘明;内田博章;林豊秀 |
分类号 |
H01L21/027(2006.01)I;G02F1/13(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I;B08B3/08(2006.01)I;G11B7/26(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/027(2006.01)I |
代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 |
代理人 |
郭晓东 |
主权项 |
1. 一种基板处理装置,其特征在于,包括:用于保持基板的基板保持装置;使用硫酸生成过硫酸的过硫酸生成装置;将通过所述过硫酸生成装置生成的过硫酸与比所述过硫酸生成装置所用硫酸更高温度并且更高浓度的硫酸进行混合的混合装置;以及将通过所述混合装置混合的过硫酸和硫酸的混合液作为从基板去除抗蚀剂用的处理液,并向保持在所述基板保持装置的基板喷出的喷出装置。 |
地址 |
日本东京都 |