CMOS图像传感器的微透镜及其制造方法

摘要

一种CMOS图像传感器的微透镜的方法，消除了相邻微透镜的弯曲之间的变平间隙。多个滤色器层形成于半导体基板上，在所述半导体基板上形成光电二极管区域、栅电极、层间绝缘层以及金属互连。在多个滤色器层上形成外敷层。在外敷层上形成微透镜。通过微透镜间的间隙所暴露的外敷层被蚀刻，以便在外敷层中的滤色器层之间的边界处形成间隙。执行流动工艺，使得微透镜的弯曲延伸到所述间隙。

主权项

1.一种CMOS图像传感器的微透镜结构，具有半导体基板和所述半导体基板上的光电二极管区域、栅电极、层间绝缘层以及金属互连，所述微透镜结构包括：多个滤色器层，在所述半导体基板上；外敷图案，在所述多个滤色器层上形成；以及微透镜，在所述外敷图案上形成，其中所述微透镜被相邻地设置，并且具有预定弯曲，并且其中相邻微透镜的预定弯曲会合在所述外敷层中。