| 发明名称 | 用于在表面上形成分子序列的方法 | ||
| 摘要 | 用于形成分子序列(10)的方法包括用包含受保护的反应基团(P<sub>L</sub>)的至少一个接头(14)衍生无限制基质(12)表面。使基质(12)与包含光生成试剂前体(18)和缓冲液和/或中和剂(20)的溶液(16)接触。光生成试剂(22)在至少部分溶液(16)中产生。设定光生成试剂(22)以起始基质(12)表面上的至少一个活性区域的形成。使单体(24)与活性区域偶联。 | ||
| 申请公布号 | CN101512340A | 申请公布日期 | 2009.08.19 |
| 申请号 | CN200780018836.2 | 申请日期 | 2007.03.23 |
| 申请人 | 密执安大学评议会;休斯顿大学 | 发明人 | E·古拉里;J·-M·鲁亚尔;X·高;X·周 |
| 分类号 | G01N33/543(2006.01)I;C07B61/00(2006.01)I;G01N33/551(2006.01)I;C07K14/00(2006.01)I | 主分类号 | G01N33/543(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 权陆军;黄可峻 |
| 主权项 | 1. 一种用于形成分子序列(10)的方法，其包括：用包含受保护的反应基团(PL)的至少一个接头(14)衍生无限制基质(12)表面；使所述基质(12)与包含光生成试剂前体(18)和缓冲液或中和剂(20)中的至少一种的溶液(16)接触；在至少部分溶液(16)中产生光生成试剂(22)，设定所述光生成试剂(22)以起始所述基质表面(12)上的至少一个活性区域的形成；和使单体(24)与所述至少一个活性区域偶联。 | ||
| 地址 | 美国密执安州 | ||