发明名称 气相沉积掩模和有机电致发光显示设备制造方法
摘要 本发明提供了一种气相沉积掩模和有机电致发光显示设备制造方法。实现了一种特别是在气相沉积开口处具有高图案精度的气相沉积掩模,而无需改变衬底结构。该气相沉积掩模包括板构件、设置在板构件的第一表面处的第一凹入图案、设置在板构件的在该板构件相对侧上的第二表面处的第二凹入图案以及设置在第一凹入图案和第二凹入图案的交叉部分处的通孔图案。该通孔图案的形状被布置成既不同于第一凹入图案的形状也不同于第二凹入图案的形状。
申请公布号 CN100530757C 申请公布日期 2009.08.19
申请号 CN200410091682.8 申请日期 2004.11.30
申请人 富士胶片株式会社 发明人 坂本义明
分类号 H01L51/56(2006.01)I;C23C16/04(2006.01)I 主分类号 H01L51/56(2006.01)I
代理机构 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 代理人 赵淑萍
主权项 1.一种气相沉积掩模,包括:板构件;第一凹入图案,设置在所述板构件的第一表面处;第二凹入图案,设置在所述板构件的在所述板构件相对侧上的第二表面处;和通孔图案,设置在所述第一凹入图案与所述第二凹入图案的相交部分处;其中所述通孔图案的形状被布置成不同于所述第一凹入图案的形状和所述第二凹入图案的形状,并且所述通孔图案的形状是矩形,其中所述矩形通孔图案的四个侧边中的一对相对侧边是由所述第一凹入图案形成的,并且所述矩形通孔图案的四个侧边中的另一对相对侧边是由所述第二凹入图案形成的,所述第一凹入图案和所述第二凹入图案中的至少一个对应于条纹图案。
地址 日本神奈川县