一种镁合金表面镀膜方法

摘要

本发明涉及一种镁合金表面镀膜方法，该方法是采用真空镀膜技术在镁合金表面镀覆一层或多层金属薄膜，其中的真空溅镀工艺条件是：本底真空＜2*10^-4mbar，工作真空1*10^-3～3*10^-3mbar，靶材数量1～3，工作功率12～15KW，链速15Hz。可以用作靶材的金属是铝、铜、铬、镍、钛、钴、锌、钒或不锈钢中的一种或多种。采用该方法对镁合金进行镀膜处理，抛弃了传统的化学镀膜方法，过程中没有用到六价铬离子，对环境友好，是一种绿色环保的新工艺。

主权项

1.一种镁合金表面镀膜方法，其特征在于，采用真空溅镀的方式在镁合金表面镀覆一层或多层薄膜，其包含如下步骤：1)将待镀的镁合金进行表面清洁整理；2)将整理后的镁合金放置于真空溅镀槽内进行金属薄膜的溅镀；其中所述真空溅镀的工艺条件是，本底真空＜2*10-4mbar，工作真空1*10-3～3*10-3mbar，靶材数量1～3，工作功率12～15kW，链速15Hz；其中用作镀层的靶材是选自铝、铜、铬、镍、钛、钴、锌、钒、硅或不锈钢中的至少一种。