通过大印章在基体上同时沉积一组图案的方法

摘要

本发明涉及通过大印章在基体上同时沉积一组图案的方法和将材料以印迹物形式沉积在基体表面上的印章(1)。印章(1)包括托座(12)和在一端部(142)连接于托座的第一表面(121)的触柱(14)。这些触柱被安置于托座(12)的第一表面(121)上，以便所有连接在托座(12)上的触柱(14)的表面(141)可以几乎同时接触在托座表面上。本发明还涉及前述印章的实施方法、及借助印章(1)将相同或不同的材料的大量印迹物几乎同时沉积在基体表面上以便分析的方法。

主权项

1. 将材料沉积于基体表面上的印章(1)，被沉积的所述材料可相同或不同，所述印章称为大印章(1)并包括：-托座(12)，其具有第一表面，该第一表面称为下表面(121)，-连接于所述托座(12)的一些触柱(14)，每个触柱具有：基本垂直于所述托座(12)的下表面(121)的轴(143)，连接于所述托座(12)的下表面(121)的第一端部(142)，第二端部(144)，其称为自由端部，并按所述轴(143)与所述第一端部(142)相对，该自由端部具有一表面(141)，所述自由端部的该表面是基本平整的、并局部平行于与所述托座(12)的下表面(121)相切的平面，并能保持含有待沉积材料的溶液，所述触柱被安置于所述托座(12)的下表面(121)上，从而所有连接于所述托座(12)的触柱(14)的表面(141)能几乎同时接触在所述基体表面上，其特征在于，所述触柱(14)的自由端部(144)的至少一表面(141)具有至少一图案(13)，所述至少一图案相应于这样的图案：材料应以这样的图案的形式被沉积在所述基体上；所述图案(13)是均一表面或点、周期性几何图案、适合衍射光线的复杂几何图案，或者上述图案的组合；并且，这些触柱(14)为毫米级尺寸，且所述触柱上的图案(13)为纳米级尺寸。