| 发明名称 | 化学气相沉积装置及方法 | ||
| 摘要 | 一种化学气相沉积装置，包括：填充气相沉积原料的填充部(10)；分解气相沉积原料的分解炉(2)；连结填充部(10)和分解炉(2)的开关阀(4)；使分解炉(2)中分解的气相沉积原料聚合，并在被沉积物的表面上形成涂膜的聚合部(3)，其中，使填充到填充部(10)的气相沉积原料汽化，通过打开开关阀(4)将所述汽化的气相沉积原料供应到分解炉(3)，形成涂膜。 | ||
| 申请公布号 | CN101511903A | 申请公布日期 | 2009.08.19 |
| 申请号 | CN200680055853.9 | 申请日期 | 2006.07.28 |
| 申请人 | 第三化成株式会社;吉世科有限公司 | 发明人 | 望月励;井上崇;上武一孝 |
| 分类号 | C08G61/02(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I | 主分类号 | C08G61/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 张 萍;李炳爱 |
| 主权项 | 1. 化学气相沉积装置，其特征在于，包括：填充气相沉积原料的填充部；分解所述气相沉积原料的分解炉；连结所述填充部和所述分解炉的开关阀；和使所述分解炉中分解的气相沉积原料聚合，并在被沉积物的表面上形成涂膜的聚合部，使填充到所述填充部的气相沉积原料汽化，通过打开所述开关阀将所述汽化的气相沉积原料供应到所述分解炉，形成所述涂膜。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||