| 发明名称 | 曝光装置的控制方法、使用该方法的曝光方法及装置、以及元件制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明的目的在于提供一种能长期间良好地维持光学元件的特性的曝光装置的控制方法、使用该方法的曝光方法及装置以及元件的制造方法。藉由质量分析装置(87)来监测氧化性气体及被膜形成气体等恶化要因气体的分压，在控制装置(90)的控制下，将来自气体供应装置(86)的恶化抑制气体适当导入真空容器(84)中，因此能长期间良好地维持构成投影光学系统(70)等的光学元件的光学特性。又，藉由照度传感器(88)来监测构成投影光学系统(70)等的光学元件的反射率降低，在控制装置(90)的控制下，将来自气体供应装置(86)的恶化抑制气体适当导入真空容器(84)中。据此，能长期间良好地维持构成投影光学系统(70)等的光学元件的光学特性。 | ||
| 申请公布号 | CN100530539C | 申请公布日期 | 2009.08.19 |
| 申请号 | CN200580022523.5 | 申请日期 | 2005.08.08 |
| 申请人 | 尼康股份有限公司 | 发明人 | 松成秀一 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/027(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 黄 健 |
| 主权项 | 1.一种曝光装置的控制方法，其特征在于，具备：监测步骤，用以监测反映曝光装置的光学系统的恶化要因及征兆中至少一方的观察要素；以及调整步骤，是依据该观察要素的监测结果，将包含还原性气体、氧化性气体、及氟化气体中至少一种的恶化抑制气体导入收容所述光学系统的容器中，且调整该恶化抑制气体的量，以使该恶化抑制气体的分压相对于包含成为所述光学系统的恶化要因的氧、水、及有机物中至少一种的恶化要因气体的分压成为既定范围的比率。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||