发明名称 可重写光学数据存储媒体及其应用
摘要 描述了一种利用聚焦辐射光束的高速记录可重写光学数据存储媒体(20)。该媒体(20)包括承载多个层(2)的基底(7),所述多个层(2)包括,基本上透明的第一辅助层I1(3),厚度为d<sub>I2</sub>的基本上透明的第二辅助层I2(5),和厚度为d<sub>p</sub>并且包括至少一种Ge<sub>x</sub>Sn<sub>y</sub>Sb<sub>1-x-y</sub>化合物的相变材料的记录层(4),其中0.05<x<0.30且0.15<y<0.30。记录层(4)被设置在I1和I2之间。厚度为d<sub>13</sub>的用于散热的第三辅助层I3(6)被设置在与记录层相背的I2侧。满足以下不等式λ<sub>I2</sub>/d<sub>I2</sub>>5*10<sup>8</sup>W m<sup>-2</sup> K<sup>-1</sup>,其中λ<sub>I2</sub>是I2层材料的热传导系数。所以提供了一种能够以大约35M/S或者更高的相对较高的线性记录速度进行记录的光学数据存储媒体。
申请公布号 CN100530381C 申请公布日期 2009.08.19
申请号 CN200480032484.2 申请日期 2004.11.01
申请人 皇家飞利浦电子股份有限公司 发明人 L·范皮德森;J·C·N·里帕斯
分类号 G11B7/24(2006.01)I 主分类号 G11B7/24(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 吴立明;王忠忠
主权项 1、一种利用聚焦辐射光束(10)进行高速记录的可重写光学数据存储媒体(20),所述媒体包括承载多个层(2)的基底(7),所述多个层包括,基本上透明的第一辅助层I1(3),厚度为dI2的基本上透明的第二辅助层I2(5),和包括一种GexSnySb1-x-y化合物的相变材料的记录层(4),其中0.05<x<0.30且0.15<y<0.30,该记录层被设置在I1和I2之间,厚度为d13的用于散热的第三辅助层I3(6)被设置在I2的与记录层相背一侧,其中λI2/dI2>5*108Wm-2K-1,其中λI2是I2层材料的热传导系数,其特征在于,将基本上透明的第四辅助层I4(8)夹在第三辅助层I3(6)和第二辅助层I2(5)之间,屏蔽第二辅助层I2对该第三辅助层I3产生的化学影响,其中第四辅助层I4(8)包括Si3N4。
地址 荷兰艾恩德霍芬