一种透明导电氧化物薄膜制备设备及方法

摘要

本发明涉及透明导电氧化物薄膜，特别涉及透明导电氧化物薄膜的制备设备及方法。透明导电氧化物薄膜制备设备，包括：带有抽真空系统和进气系统的封闭反应室；在封闭反应室内设有可运动或旋转的基板架，并配有加热器与挡板；与基板架相对设置的溅射源；其不同之处在于，在基板架与溅射源之间还设有氧离子源。氧离子源与基板架中心角度在0到180度范围内可调。本发明采用活性等离子体氧取代氧气作为反应物，大大降低了阳极“消失”和阴极“中毒”的几率，减少了“起弧”频率，提高了系统的运行稳定性，且结构简单，造价低，运行及维护成本低。

主权项

1、一种透明导电氧化物薄膜制备设备，包括：带有抽真空系统(9)和进气系统(10)的封闭反应室(1)；在封闭反应室(1)内设有可运动或旋转的基板架(7)，并配有加热器(8)与挡板(13)；与基板架(7)相对设置的溅射源；其特征在于，在基板架(7)与溅射源之间还设有氧离子源(6)。