| 发明名称 | 硅(110)衬底各向异性腐蚀中直角结构补偿图形生成方法 | ||
| 摘要 | 硅(110)衬底各向异性腐蚀中直角结构补偿图形生成方法，其特征是，对于硅(110)衬底上制作的含有直角形式凸角，且该直角由<110>晶向和<100>晶向为直边构成的目标器件结构，其直角补偿图形生成的过程由两个步骤实现：首先建立直角补偿图形的拓扑结构，然后根据直角补偿图形生成方法产生具体的直角补偿图形。所有直角补偿图形的外轮廓均起始于表示<100>晶向的直线b1(或b2)，并且具体图形可以由下列方法之一生成：本发明具有理论原理清晰，具体补偿生成方便、灵活的优点。同时，因为本发明所提供的技术方法具有明确的技术路径，非常适合应用到计算机辅助设计系统中。 | ||
| 申请公布号 | CN101510508A | 申请公布日期 | 2009.08.19 |
| 申请号 | CN200910029826.X | 申请日期 | 2009.03.18 |
| 申请人 | 东南大学 | 发明人 | 李伟华;张涵 |
| 分类号 | H01L21/306(2006.01)I;B81C1/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/306(2006.01)I |
| 代理机构 | 南京经纬专利商标代理有限公司 | 代理人 | 叶连生 |
| 主权项 | 1、一种硅(110)衬底各向异性腐蚀中直角结构补偿图形生成方法，其特征是，对于硅(110)衬底上制作的含有直角形式凸角，且该直角由<110>晶向和<100>晶向为直边构成的目标器件结构，其直角补偿图形生成的过程由两个步骤实现：首先建立直角补偿图形的拓扑结构，然后根据直角补偿图形生成方法产生具体的直角补偿图形。 | ||
| 地址 | 211109江苏省南京市江宁开发区东南大学路2号 | ||