| 发明名称 | 用于处理衬底的设备 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于处理衬底的设备。所述设备用于在真空室(2)内处理衬底，所述处理例如是涂覆。在此真空室(2)内，布置有n个阴极(7-10)和n+1个阳极(28-32)，所述阳极中的每个都与阴极(7-10)相邻。所述n个阴极(7-10)和相应的n个阳极(29-32)连接到电源(11-14)。阳极中未与阴极(7-10)对应的一个(28)连接到与每个阳极(28-32)连接的电线(63)。下拉电阻器(34)在其一端连接到所述电线(63)并在其另一端连接到地线(33)。 | ||
| 申请公布号 | CN101509128A | 申请公布日期 | 2009.08.19 |
| 申请号 | CN200910008542.2 | 申请日期 | 2009.01.23 |
| 申请人 | 应用材料公司 | 发明人 | 马卡斯·哈尼卡;杜比亚斯·斯托利 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I;C03C17/00(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/35(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 赵 飞;南 霆 |
| 主权项 | 1. 一种用于处理衬底的设备，包括：真空室(2)；所述真空室(2)内的至少两个阴极装置(7-10)，其中n≥2，n是阴极的数量；所述真空室(2)内的至少两个阳极装置(28-32)；连接线(63)，每个所述阳极(28-32)连接到所述连接线(63)；电阻器(34)，所述电阻器(34)在其一端处连接到所述连接线(63)，并在其另一端处连接到地线(33)，所述电阻器(34)具有至少2Ω的电阻。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||