用于无机发光材料沉积的硫化氢注射方法

摘要

本发明是一种向基质上进行多元素含硫薄膜组合物真空蒸镀的方法。该方法包括在源材料蒸镀期间将气体或蒸汽含硫物质源对准一种或多种源材料，该源材料构成薄膜组合物的至少一部分。在所述薄膜组合物沉积期间，该含硫物质当到达一种或多种源材料时被加热至高温并且含硫物质与一种或多种源材料的蒸发物具有化学相互作用。该方法特别适于为全色交流电致发光显示装置沉积无机发光材料，该显示装置采用具有高介电常数的厚膜介质层。

主权项

1.一种向基质上进行多元素含硫薄膜组合物的真空蒸镀方法，该方法包括：-在沉积室中，在一种或多种源材料蒸发期间，对准一种或多种源材料提供气体或蒸汽的含硫物质源，所述源材料至少构成薄膜组合物的一部分，其中在所述薄膜组合物沉积期间，对准所述源材料以一定的流速提供该气体或蒸汽含硫物质，使得该气体或蒸汽含硫物质相对于整个所述沉积室的压力以更高的分压分散于源材料的表面上，并且其中该气体或蒸汽含硫物质与来自所述的一种或多种源材料的蒸发物具有化学相互作用。