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发明名称 DEVICE FOR CLEANING FLAT SUBSTRATES
摘要 <p>The present invention relates to a device and a method for cleaning flat substrates, in particular silicon wafers, in a stacked upright position by a combined rinse and ultrasonic treatment directed at the substrate sides.</p>
申请公布号 WO2009098042(A1) 申请公布日期 2009.08.13
申请号 WO2009EP00749 申请日期 2009.02.04
申请人 MEYER BURGER AG;KERAT, UWE 发明人 KERAT, UWE
分类号 H01L21/00 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人
主权项
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