Vorrichtung und Verfahren zur Behandlung von Formteilen mittels energiereicher Elektronenstrahlen

摘要

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Behandlung von Formteilen (2) mit energiereichen Elektronenstrahlen (10), bei der die Elektronenstrahlen (10) durch zwei sich gegenüberliegende stationäre oder bewegliche Elektronenaustrittsfenster auf das Formteil (2) geleitet werden, die einen Prozessraum (6) für das Formteil (2) begrenzen. Es ist eine Transporteinrichtung für das Formteil (2) vorhanden, mit der das Formteil (2) an den senkrecht zur Transportrichtung im Wesentlichen vertikal angeordneten Elektronenaustrittsfenstern (7, 8) vorbei durch den Prozessraum (6) führbar ist und dass für den Zutransport des Formteils (2) ein gegenüber der Röntgenstrahlung im Prozessraum (6) weitgehend abgeschirmter Kanal (3, 3a, 3b, 3c) angeordnet ist.