发明名称 Lithographic apparatus and device manufacturing method
摘要
申请公布号 EP1465013(B1) 申请公布日期 2009.08.12
申请号 EP20040251078 申请日期 2004.02.26
申请人 ASML NETHERLANDS B.V. 发明人 HOL, SVEN ANTOIN JOHAN;COMPTER, JOHAN CORNELIS;LOOPSTRA, EIRK ROELOF;VREUGDEWATER, PATRICIA
分类号 G03F7/20;H02K41/02;H02K41/03 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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