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发明名称
Lithographic apparatus and device manufacturing method
摘要
申请公布号
EP1465013(B1)
申请公布日期
2009.08.12
申请号
EP20040251078
申请日期
2004.02.26
申请人
ASML NETHERLANDS B.V.
发明人
HOL, SVEN ANTOIN JOHAN;COMPTER, JOHAN CORNELIS;LOOPSTRA, EIRK ROELOF;VREUGDEWATER, PATRICIA
分类号
G03F7/20;H02K41/02;H02K41/03
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
主权项
地址
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