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发明名称 LOW DEFECT Si:C LAYER WITH RETROGRADE CARBON PROFILE
摘要
申请公布号 EP2087521(A1) 申请公布日期 2009.08.12
申请号 EP20070853897 申请日期 2007.10.10
申请人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 发明人 LIU, YAOCHENG;IYER, SUBRAMANIAN;LI, JINGHONG
分类号 H01L29/161;H01L21/265;H01L29/10;H01L29/786 主分类号 H01L29/161
代理机构 代理人
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