| 发明名称 | 形成基准图案的方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种形成基准图案的方法。该方法包括：确定初始基准图案的边界点是否位于盘的内径区域，该内径区域在最外周的道的内侧；以及如果所述初始基准图案的边界点确定为位于所述盘的内径区域，则与所述初始基准图案整体地形成补偿基准图案，使得最终基准图案沿所述盘的外径方向延伸。该方法通过根据初始基准图案的边界点是否处于盘的最外周的道的内侧来延伸初始基准图案，允许将缺陷基准图案补偿为有效基准图案。 | ||
| 申请公布号 | CN101504838A | 申请公布日期 | 2009.08.12 |
| 申请号 | CN200910009983.4 | 申请日期 | 2009.02.04 |
| 申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 申浩澈;崔浩峻 |
| 分类号 | G11B5/596(2006.01)I | 主分类号 | G11B5/596(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 张 波 |
| 主权项 | 1. 一种形成基准图案的方法，该方法包括：确定初始基准图案的边界点是否位于盘的内径区域，该内径区域在最外周的道的内侧；以及如果所述初始基准图案的边界点确定为位于所述盘的内径区域，则与所述初始基准图案整体地形成补偿基准图案，使得最终基准图案沿所述盘的外径方向延伸。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||