发明名称 |
激光聚焦式测头应用于特殊结构测量中的标定和扫描方法 |
摘要 |
本发明为激光聚焦式测头应用于特殊结构测量中的标定和扫描方法。通过对具有多种材料表面的被测样品进行预先多次标定,在扫描过程中通过自动或手动设置FES信号线性拟合系数,对具有多种材料表面的被测样品进行焦平面位置修正。本发明在不改变原有测量系统硬件结构的基础上,克服激光聚焦方法在测量对象和分辨力上的缺陷,拓展了该方法的应用领域。 |
申请公布号 |
CN101504374A |
申请公布日期 |
2009.08.12 |
申请号 |
CN200910056934.6 |
申请日期 |
2009.03.06 |
申请人 |
上海市计量测试技术研究院 |
发明人 |
李源;邹子英;刘一 |
分类号 |
G01N21/84(2006.01)I |
主分类号 |
G01N21/84(2006.01)I |
代理机构 |
上海浦东良风专利代理有限责任公司 |
代理人 |
陈志良 |
主权项 |
1、激光聚焦式测头应用于特殊结构测量中的标定和扫描方法,包括如下步骤:1)在具有两种和两种以上表面材料的器件和结构表面,使聚焦式测头在每个表面进行单独的预先标定,记录各表面聚焦信号参数;2)以标定后得到的聚焦信号参数作为扫描平台的反馈控制信号,初始化聚焦信号的突变阈值范围;并确认被测样品一直处于激光的焦平面上;3)对被测样品表面开始扫描,在扫描过程中判断聚焦信号是否超出突变阈值范围;若超出突变阈值范围,则判断发生突变的原因,手动或自动切换聚焦信号参数,修正测量激光的焦平面位置。 |
地址 |
201203上海市浦东新区张衡路1500号 |