用于校正图像变化的方法和系统

摘要

本发明涉及一种用于补偿光学系统中、特别是微光刻系统的投影透镜阵列(3)中强度分布所致成像误差的方法，该方法包括以下步骤：确定光学系统的至少一个光学元件中与位置和时间有关的强度分布；确定已经为之确定强度分布的至少光学元件中与位置和/或时间有关的吸收能量；确定光学元件由所述能量造成的变形和/或光学属性变化；以及根据先前步骤的结果来选择一个或者多个补偿措施。并且本发明涉及一种用于对物体、特别是用于微光刻的投影透镜进行成像的光学系统，该光学系统优选地用于将所述的方法与至少一个、优选为多个光学元件(4，5)一起应用，其中为强度测量提供可以位于光路中的至少一个图像检测器(6，7)，该检测器直接地测量光学系统的光路中的位置和/或时间分解强度分布。

主权项

1. 一种用于补偿光学系统中、特别是微光刻系统的投影透镜阵列中辐射强度分布所致的成像误差的方法，包括下列顺序的步骤：-确定所述光学系统的至少一个光学元件中与位置和时间有关的强度分布；-确定已经为之确定强度分布的至少所述光学元件中与位置和/或时间有关的吸收能量；-确定所述光学元件由所述能量造成的变形和/或光学属性的变化；以及-根据先前步骤的结果来选择一个或者多个补偿措施。