发明名称 基于能量识别的X射线位相成像非相干散射消除装置
摘要 一种基于能量识别的X射线位相成像非相干散射消除装置,包括X射线产生及调制系统,待测物固定装置,和后端X射线调制及探测系统三部分。本发明通过选择不同的滤除材料,能保证有效X射线基本没有损失,波长不变的初级辐射几乎可以全部到达X射线探测器,而消除非相干散射对成像质量的影响。本发明能滤除对人体损伤较大的长波长X射线,使得成像过程对人体或生物组织的损伤达到最小,且具有普遍适用、制作简单、低成本、小体积和稳定性好的特点。
申请公布号 CN100526979C 申请公布日期 2009.08.12
申请号 CN200610024489.1 申请日期 2006.03.08
申请人 中国科学院上海光学精密机械研究所 发明人 喻虹;韩申生;张帅;彭卫军
分类号 G03B42/02(2006.01)I;G01N23/04(2006.01)I;A61B6/00(2006.01)I 主分类号 G03B42/02(2006.01)I
代理机构 上海新天专利代理有限公司 代理人 张泽纯
主权项 1、一种基于能量识别的X射线位相成像非相干散射消除装置,包括X射线产生及调制系统,待测物固定装置和后端X射线调制及探测系统三部分,其特征在于:生装置、X射线源调制器和位于防辐射外壳上的X射线出射窗构成;所述的后端X射线调制及探测系统由后端X射线调制器和X射线探测器构成;所述的待测物固定装置置于X射线产生及调制系统与后端X射线调制及探测系统之间;X射线源调制器和位于防辐射外壳上的X射线出射窗,待测物固定装置,以及后端X射线调制器和X射线探测器同轴;之间,由一种或多种薄层材料平行叠放构成,薄层材料与光轴方向垂直,所述的X射线源调制器各薄层的材料和厚度由成像所需波长来决定;之间,由一种或多种薄层材料平行叠放构成,薄层材料与光轴方向垂直,各薄层的材料和厚度由成像所用波长来决定,用于滤除非相干散射光。
地址 201800上海市800-211邮政信箱
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