| 发明名称 | 光学掩模及利用该掩模的薄膜晶体管阵列面板的制造方法 | ||
| 摘要 | 公开了一种用于使非晶硅结晶的光学掩模，其包括第一狭缝区域，所述第一狭缝区域包括规则排布以用于限定激光束入射区域的多个狭缝，其中在结晶工艺中第一狭缝区域的狭缝形成为与光学掩模的移动方向倾斜成预定角度，并且其中第一狭缝区域的狭缝包括具有第一长度的第一狭缝和具有第二长度的第二狭缝，所述第二长度大于所述第一长度。 | ||
| 申请公布号 | CN101504934A | 申请公布日期 | 2009.08.12 |
| 申请号 | CN200910006773.X | 申请日期 | 2005.01.06 |
| 申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 郑义振;姜明求;李在馥 |
| 分类号 | H01L21/84(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I;H01L21/20(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I;H01L21/268(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/84(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波 |
| 主权项 | 1. 一种薄膜晶体管阵列面板的制造方法，包括：通过将激光束照射到非晶硅层上来形成多晶硅层，其中所述多晶硅晶粒的边界在一方向排列，该方向从所述薄膜晶体管的沟道方向倾斜。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||