用于显影光刻胶的装置以及用于操作该装置的方法

摘要

第一临近端头配置为在该基片上限定光刻胶显影液的弯液面。该弯液面限定在该第一临近端头的底部和该基片之间。第二临近端头配置为在该基片上限定清洗弯液面并从该基片去除该清洗弯液面。该第二临近端头设置为相对该基片之上的该第一和第二临近端头的横向跟随该第一临近端头。将该基片暴露于光刻胶显影液的弯液面导致先前该基片上受照射的光刻胶材料被显影，以产生图案化的光刻胶层。该第一和第二临近端头能够在显影处理期间精确控制光刻胶显影液在基片上的存留时间。

主权项

1. 一种用于显影在基片上经曝光的光刻胶材料的装置，包括：第一临近端头，其配置为在该基片上限定光刻胶显影液的弯液面，弯液面限定在该第一临近端头的底部和该基片之间；以及第二临近端头，其配置为在该基片上限定清洗弯液面并从该基片去除该清洗弯液面，该第二临近端头设置为相对该基片之上的该第一和第二临近端头的横向跟随该第一临近端头。