发明名称 液体吐出头用喷嘴板的制造方法、液体吐出头用喷嘴板及液体吐出头
摘要 本发明涉及一种液体吐出头用喷嘴板的制造方法、液体吐出头用喷嘴板及液体吐出头。提供一种液体能够从吐出孔没有不均地良好吐出的廉价液体吐出头用喷嘴板。按以下记述顺序进行下述各工序:准备基板,在由Si构成的第1基材的一侧设Si各向异性干蚀刻时蚀刻速度慢于Si的第2基材,构成基板;在第2基材的表面形成成为第2蚀刻掩模的膜,在为第2蚀刻掩模的膜上,形成具有小径部开口形状的第2蚀刻掩模图案;进行蚀刻直至贯通第2基材为止;在第1基材的表面形成成为第1蚀刻掩模的膜;在为第1蚀刻掩模的膜上,形成具有大径部开口形状的第1蚀刻掩模图案;进行Si各向异性干蚀刻直至贯通第1基材为止。
申请公布号 CN101505967A 申请公布日期 2009.08.12
申请号 CN200780031677.X 申请日期 2007.08.17
申请人 柯尼卡美能达控股株式会社 发明人 梁田笃郎;土井勋
分类号 B41J2/135(2006.01)I 主分类号 B41J2/135(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 岳雪兰
主权项 1. 一种液体吐出头用喷嘴板的制造方法,液体吐出头用喷嘴板由具有贯通孔的基板构成,所述贯通孔由大径部和小径部构成,所述大径部开口于所述基板的一个面,所述小径部开口于所述基板的另一面且截面小于所述大径部的截面,以所述贯通孔的所述小径部的开口作为液滴吐出孔,液体吐出头用喷嘴板制造方法的特征在于,按以下记述顺序进行下述各工序:准备基板,在由Si构成的第1基材的一侧设Si各向异性干蚀刻时蚀刻速度慢于Si的第2基材,构成基板;在所述第2基材的表面形成成为第2蚀刻掩模的膜;对为所述第2蚀刻掩模的膜进行光刻处理以及蚀刻,形成具有所述小径部开口形状的第2蚀刻掩模图案;进行蚀刻直至贯通所述第2基材为止;在所述第1基材的表面形成成为第1蚀刻掩模的膜;对为所述第1蚀刻掩模的膜进行光刻处理以及蚀刻,形成具有所述大径部开口形状的第1蚀刻掩模图案;进行Si各向异性干蚀刻直至贯通所述第1基材为止。
地址 日本东京都