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经营范围
发明名称
Chemical vapor deposition apparatus
摘要
申请公布号
KR100910856(B1)
申请公布日期
2009.08.06
申请号
KR20070059610
申请日期
2007.06.18
申请人
发明人
分类号
C23C16/00
主分类号
C23C16/00
代理机构
代理人
主权项
地址
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