| 发明名称 | 具有可预测的温度控制的分析炉 | ||
| 摘要 | 一种分析炉(12)包括预测温度控制装置，其被训练用于在分析期间模拟坩埚(24)温度，其中使用一对温度传感器，一个传感器(130)以固定的关系被安装在炉子内，第二传感器(140)可以置于坩埚内，用于训练和调整坩埚温度分布，使得试样被置于其中的坩埚的温度被模拟，并且得知按照炉子的动态热特性其对炉子(12)施加的能量的响应。借助于模拟坩埚(24)内的温度分布，所述炉子可被控制，使得提供较快的更精确的分析，并阻止当接近所需的温度稳定段时发生过大的温度超调。 | ||
| 申请公布号 | CN100525545C | 申请公布日期 | 2009.08.05 |
| 申请号 | CN200480006138.7 | 申请日期 | 2004.03.02 |
| 申请人 | 莱克公司 | 发明人 | 比德·M·威尔利斯 |
| 分类号 | H05B1/02(2006.01)I | 主分类号 | H05B1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 马 浩 |
| 主权项 | 1. 一种分析炉，包括：具有加热元件的炉子；用于控制对所述加热元件的功率施加的控制电路；第一温度传感器，以固定的关系被设置在所述炉子内，用于检测固定位置的炉温；第二温度传感器，被可除去地设置在一个坩埚内，所述坩埚被设置在所述炉子内；以及其中所述控制电路包括温度模拟周期，用于在炉温步进的周期期间使所述第一和第二温度传感器之间的温度相关联，并作为对此的响应，产生最佳温度控制信号，用于使坩埚温度增加到所需的温度值。 | ||
| 地址 | 美国密执安州 | ||