| 发明名称 | 嵌段共聚物的制造方法及嵌段共聚物或其氢化物 | ||
| 摘要 | 本发明能够提供在使用锂引发剂的阴离子聚合中以高生产率得到嵌段共聚物的制造方法，并且能够提供该嵌段共聚物或其氢化物，所述嵌段共聚物具有乙烯基键量高的共轭二烯嵌段部分和分子量分布窄的乙烯基芳香族嵌段部分，并且该嵌段共聚物的分子量分布窄且具有高强度。使用锂引发剂将共轭二烯系单体和乙烯基芳香族系单体嵌段共聚时，使(1)叔胺化合物和(2)醇钠以(2)/(1)为0.01以上且小于0.1的摩尔比共存。 | ||
| 申请公布号 | CN101501090A | 申请公布日期 | 2009.08.05 |
| 申请号 | CN200680055542.2 | 申请日期 | 2006.08.16 |
| 申请人 | 旭化成化学株式会社 | 发明人 | 笹川雅弘;仁田克德 |
| 分类号 | C08F297/04(2006.01)I;C08F4/48(2006.01)I | 主分类号 | C08F297/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 丁香兰 |
| 主权项 | 1. 一种嵌段共聚物的制造方法，该制造方法是使用锂引发剂将共轭二烯系单体和乙烯基芳香族系单体嵌段共聚的方法，其特征在于，聚合时使以下物质(1)、物质(2)共存：(1)叔胺化合物、(2)醇钠，此处，(2)/(1)的摩尔比为0.01以上且小于0.1。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||