粒子监测装置和真空处理装置

摘要

本发明提供的粒子监测装置，能够防止或降低监测出的散射光强度，相应于气流通过区域中的粒子通过位置产生变化，从而可以提高对粒子尺寸的监测精度。其方式是由激光光源(10)射出呈一维形式排列的10条激光光束(L1、…L10)，通过投射光学系统(20)将这些光束(L1、…L10)转换为整体呈一条带状(带状宽度方向为d)的光束(LO)，并且按照使所述光束(LO)的光强度，在半导体制造工序(200)的气流贯穿区域(R)中相对其带状宽度方向(d)呈大致均匀分布的方式，使由激光光源(10)射出的10条激光光束(L1、…L10)部分彼此重合。

主权项

1. 一种粒子监测装置，其包括：光源，用于射出具有预定强度的光束；投射光学系统，用于将所述光源射出的光束转换为带状光束，并将所述带状光束导入预定气流通路，从而使所述预定的气流通过所述带状光束；光检测器，用于检测光强度；检测光学系统，用于对由包含在所述气流中贯穿所述光束的粒子产生的散射光束导入所述光检测器处；以及粒子检测器，用于依据由所述光检测器检测出的所述散射光束的强度，算出贯穿所述光束的粒子的尺寸，并且对在预定时间计数贯穿所述光束的所述粒子数目，其特征在于：所述光源被配置为至少按照一维阵列射出多条光束的光源，并且所述投射光学系统被配置为使由所述光源射出的光束的一部分彼此重合，从而使所述带状光束宽度方向的光强度分布大致均匀。