| 发明名称 | 优化偏振照明 | ||
| 摘要 | 公开的概念包括一种对将要形成在基底表面上的图案的照明偏振进行优化的方法。通过如下步骤来优化偏振照明：对于至少两种偏振态确定照明器上的至少一点的照明强度，对于至少两种偏振态确定照明器上的至少一点的图像对数斜率，确定最大图像对数斜率(ILS)其中对于照明器上的至少一点ILS接近零，以及选择相应于对于照明器上的至少一点使ILS最小化的至少两个偏振态的最佳偏振态。对于照明器上的多个点可以重复进行这些步骤。 | ||
| 申请公布号 | CN100524028C | 申请公布日期 | 2009.08.05 |
| 申请号 | CN200410094712.0 | 申请日期 | 2004.11.12 |
| 申请人 | ASML蒙片工具有限公司 | 发明人 | R·索查;D·弗拉格洛;S·G·汉森 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G06F17/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 王波波 |
| 主权项 | 1. 一种用于优化将在基底表面中形成的图案的照明偏振的方法，包括以下步骤：(a)对于至少两种偏振态，确定照明器上至少一个点的照明强度；(b)对于至少两种偏振态，确定照明器上至少一个点的图像对数斜率；(c)确定最大图像对数斜率，其中对于照明器上的至少一个点的最大图像对数斜率至少接近于零；(d)对于照明器上至少一个点，选择对应于最大图像对数斜率的最佳偏振态。 | ||
| 地址 | 荷兰维尔德霍芬 | ||