发明名称 |
磁阻效应元件及其制造方法 |
摘要 |
本发明提供一种可实现更大MR变化率的磁阻效应元件,该磁阻效应元件,其特征在于,具有:磁阻效应膜;以及用于使电流在上述磁阻效应膜的膜面上垂直流通的一对电极,该磁阻效应膜,含有:磁化方向实质上固定在一个方向上的磁化固定层;磁化方向对应于外部磁场而变化的磁化自由层;设置在上述磁化固定层和上述磁化自由层之间的中间层;设置在上述磁化固定层或上述磁化自由层上面的盖层;以及设于上述磁化固定层中、上述磁化自由层中、上述磁化固定层和上述磁化自由层的界面、上述中间层和上述磁化自由层的界面、以及上述磁化固定层或磁化自由层与上述盖层的界面的任何一个、并由含有氧或氮的材料形成的功能层,上述功能层的结晶取向面与其上或其下邻接的层的结晶取向面不同。 |
申请公布号 |
CN101499514A |
申请公布日期 |
2009.08.05 |
申请号 |
CN200910003801.2 |
申请日期 |
2009.02.01 |
申请人 |
株式会社东芝 |
发明人 |
村上修一;福泽英明;汤浅裕美;藤庆彦 |
分类号 |
H01L43/08(2006.01)I;G11B5/39(2006.01)I;H01L43/12(2006.01)I |
主分类号 |
H01L43/08(2006.01)I |
代理机构 |
上海市华诚律师事务所 |
代理人 |
丁利华 |
主权项 |
1. 一种磁阻效应元件,其特征在于,具有:磁阻效应膜;以及用于使电流在上述磁阻效应膜的膜面上垂直流通的一对电极,该磁阻效应膜含有:磁化方向实质上固定在一个方向上的磁化固定层;磁化方向对应于外部磁场而变化的磁化自由层;设置在上述磁化固定层和上述磁化自由层之间的中间层;设置在上述磁化固定层或上述磁化自由层上面的盖层;以及设于上述磁化固定层中、上述磁化自由层中、上述磁化固定层和上述中间层的界面、上述中间层和上述磁化自由层的界面、以及上述磁化固定层或磁化自由层与上述盖层的界面的任何一个、并由含有氧或氮的材料形成的功能层,上述功能层的结晶取向面与其上或其下邻接的层的结晶取向面不同。 |
地址 |
日本东京都港区芝浦一丁目1番1号 |