发明名称 磁阻效应元件及其制造方法
摘要 本发明提供一种可实现更大MR变化率的磁阻效应元件,该磁阻效应元件,其特征在于,具有:磁阻效应膜;以及用于使电流在上述磁阻效应膜的膜面上垂直流通的一对电极,该磁阻效应膜,含有:磁化方向实质上固定在一个方向上的磁化固定层;磁化方向对应于外部磁场而变化的磁化自由层;设置在上述磁化固定层和上述磁化自由层之间的中间层;设置在上述磁化固定层或上述磁化自由层上面的盖层;以及设于上述磁化固定层中、上述磁化自由层中、上述磁化固定层和上述磁化自由层的界面、上述中间层和上述磁化自由层的界面、以及上述磁化固定层或磁化自由层与上述盖层的界面的任何一个、并由含有氧或氮的材料形成的功能层,上述功能层的结晶取向面与其上或其下邻接的层的结晶取向面不同。
申请公布号 CN101499514A 申请公布日期 2009.08.05
申请号 CN200910003801.2 申请日期 2009.02.01
申请人 株式会社东芝 发明人 村上修一;福泽英明;汤浅裕美;藤庆彦
分类号 H01L43/08(2006.01)I;G11B5/39(2006.01)I;H01L43/12(2006.01)I 主分类号 H01L43/08(2006.01)I
代理机构 上海市华诚律师事务所 代理人 丁利华
主权项 1. 一种磁阻效应元件,其特征在于,具有:磁阻效应膜;以及用于使电流在上述磁阻效应膜的膜面上垂直流通的一对电极,该磁阻效应膜含有:磁化方向实质上固定在一个方向上的磁化固定层;磁化方向对应于外部磁场而变化的磁化自由层;设置在上述磁化固定层和上述磁化自由层之间的中间层;设置在上述磁化固定层或上述磁化自由层上面的盖层;以及设于上述磁化固定层中、上述磁化自由层中、上述磁化固定层和上述中间层的界面、上述中间层和上述磁化自由层的界面、以及上述磁化固定层或磁化自由层与上述盖层的界面的任何一个、并由含有氧或氮的材料形成的功能层,上述功能层的结晶取向面与其上或其下邻接的层的结晶取向面不同。
地址 日本东京都港区芝浦一丁目1番1号